| Name des Moduls | [117900] XUV and X-Ray Optics | Bezeichnung des Moduls | PAFMO290 |
| Studiengang | [128] - Physik | ECTS Punkte | 4 |
| Arbeitsaufwand für Selbststudium | 75 | Häufigkeit des Angebotes (Modulturnus) | jedes Semester |
| Arbeitsaufwand in Präsenzstunden | 45 | Dauer des Moduls | 1 |
| Arbeitsaufwand Summe (Workload) | 120 | ||
| Modul-Verantwortliche/r | Prof. Dr. Christian Spielmann, Dr. Daniil Kartashov Dr. habil. Jan Rothhardt |
| Voraussetzung für die Vergabe von Leistungspunkten (Prüfungsform) | schriftliche oder mündliche Prüfung (100%) |
| Unterrichtssprache | Englisch |
| Voraussetzung für die Zulassung zum Modul | Keine |
| Empfohlene bzw. erwartete Vorkenntnisse | keine |
| Verwendbarkeit (Voraussetzung wofür) | keine |
| Art des Moduls (Pflicht-, Wahlpflicht- oder Wahlmodul) | 128 M.Sc. Physik Vertiefung „Optik”: Wahlpflichtmodul 628 M.Sc. Photonics: Wahlpflichtmodul |
| Zusammensetzung des Moduls / Lehrformen (V, Ü, S, Praktikum, …) | Vorlesung: 2 SWS Übung: 1 SWS |
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| Lern- und Qualifikationsziele | This course covers the fundamentals of modern optics at short wavelengths as they are necessary for the design of EUV and X-ray optical elements. Based on this the students will learn essentials of several challenging applications of short-wavelength optics, being actual in modern science and technology, including XUV- and X-ray microscopy.
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